GaN刻蚀机采用独特的等离子体源，刻蚀速率精细可控，侧壁及底部损伤小、均匀性好，易维护，性能稳定。其在Micro LED、GaN功率器件、GaN-GaAs射频器件的刻蚀上性能优异。已在多条主流产线验证成功，具备快速导入量产的能力。
